逢甲大學 光電系統設計實驗室-導入OptisWorks應用於光學膜設計。
近來因為對背光模組發光效率與薄型化的市場要求。除了導光板的微結構設計之外，透過光學膜提升發光效率也是一項重點的應用技術。使用更少、更薄的光學片元件能夠將發光效能做最有效率地應用。逢甲大學電機系 李企桓 博士投入光學膜片相關開發與技術應用10年的時間，針對導光板微型結構、擴散光學膜片、增亮集光片耦合應用上提出相當多的解決方案。
▲ 應用Optisworks建購多樣化的微結構
為了因應導光板上大量的複合式微結構，李企桓博士指出：『Optisworks整合完整CAD功能與Optis光學模擬方案素有的高效能的運算效能，有效率的進行多工的模擬運算，可以建構許多以往光學軟體不易建構的幾何模型，讓研究過程效率提升很多』。
Optisworks是目前少數有支援多核心CPU硬體的光學模擬軟體，在Optisworks 2011之後更支援達16核的運算功能與Win7 64位元的作業系統。在面對大量複雜的結構時，充分發揮64位元作業系統的強大效能。
對於光學膜片常見的Moire現像以往都是經由實作進行測試，Optisworks具有高解析度的inverse simulation 功能，以往光學軟體因為接收器解析度與有效光跡數的限制。無法在設計初期檢視Moire效果。
李企桓博士說：『Optisworks具有高解析度的inverse simulation模擬設定功能。
可以透過觀察點、立體角、接收器pixel讓光線進行逆方向進行光跡運算。大幅提高模擬的解析度與有效光跡數。清楚檢視Moire現象。有效降低產品開發成本與時程』。
隨著導光板與擴散片薄型化的趨勢，Moire現象在雙層Bef與導光板vcut堆疊及上層bef與液晶color filter相干涉，甚至Touch Panel ITO網格與Color Filter的交互影響都可以提供有效的解析方案，讓產品開發時不在只是旋轉角度，更能讓結構修改程為解決Moire的選項之一。Moire在能量的差異上相當低約只有1%~2%之間，如以量化的量測方式並不易發現，但是經由視覺化的結果比對更能清楚看到現象的呈現。
▲ 上圖為原先的V CUT設計，下圖為V CUT調整後之MOIRE現象
▲ 上圖為原先的V CUT設計，下圖為V CUT調整後之MOIRE現象
▲ BEF與Color Filter產生不同觀察視角的moire現象
李企桓博士投入光學設計應用領域多年，並在不同的應用範疇時使用過許多學模擬設計方案，在LCD領域需要處理大量結構與高解析度光跡時解析時，選擇使用Optisworks作為解決方案。有效縮短建構模組與模擬運算的時效。